秦光学的镜头生产线,进行升级,然后把它给拆了,直接获得光刻机镜片和反射镜制造,所需要的大部分设备零件。
这么做的效率无疑会高很多,
而且升级后的生产线,估计连解析项目都没有,
因为里面的大部分技术,康驰在解析光刻机的时候,就已经得到了,他本人拥有非常大的解释空间。
唯一的缺点就是,需要他在接下的项目中,进行一定的混淆视听,把这些拆分开的组件,神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。
嗯,
就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究,
到时候估计也是康驰让他们干什么,他们就干什么,思考空间并不多。
至于光刻机最后的一个关键系统,则是承载硅片的双工件台系统。
它的工作原理很简单,就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位,但其中的技术含量其实非常大。
因为这个工作平台必须快、准、狠。
速度,决定了光刻机的效率,
移动太慢了,光刻机的产量就不行,
这就要求它,在高速移动后,还得迅速且精准地停下,
停留的位置误差,还得在1nm以内,
但凡偏差大一点,整个晶圆就直接报废了!
这啥概念?
大概就是一辆高速行驶的汽车,突然紧急刹停,然后停下位置误差还不能超过1毫米。
不过这个难点,在今年5月份的时候,刚好被铪工大给搞定了,
他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪,位移的分辨率达到了惊人的5pm,位移误差控制在了30pm!
要知道,1000pm才等于1nm!
0.03nm的位移误差,简直牛逼到不行!
康驰简直怀疑,他们是不是和自己一样开了挂……
讲真,华国能人还是挺多的,
如果不靠系统,康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术,但时间就不知道要多久了……
所以康驰一直也不断地在提醒自己,虽然系统确实好用,但自己学习和理解的脚步同样不能停下。
这不但是为了在解析技术的时候,减轻自己的痛苦,免得突然暴毙,更是为以后万一出现精通点不够,需要自研的情况出现时,不至于两眼一抹黑啥也干不了。
总之EUV光刻机的大部分技术难点,其实华国都已经攻克或即将攻克了,只不过具体哪些能够复刻落地量产,还是个未知数。
为了得到答案,康驰特地打了个电话给吕首长。
当听到康驰问光刻机的事情,吕首长顿时就打起了精神,连忙问道:“你准备搞光刻机研发?”
“嗯,有这个想法。”
“搞光刻机好啊!嗯……不过你不是忙着量产采油虫吗?哪来这么多的时间精力研发光刻机?”
“抽空玩玩呗……”
“……”
随后康驰又在吕首长的沉默中,咨询了关于常春光所EU
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