克项目了,当然他的攻克小组中的成员倒是都没有闲着,而是继续做着其他的任务,另外三位教授知道林晓在攻克理论上的问题,这方面他们插不了手,于是就又计算出了好几种能够实现对X光放大缩小的结构。
这些结构在所选元素上不尽相同,除了之前他们搞出来的那种纯硅晶体,现在又搞出了碳化硅晶体,以及其他一些非单质的晶体,这样一来,他们的备选方案也就多了,只要林晓在理论上完成了突破,他们就能根据这多种方案,选出其中成本最低的一种。
所以,这件事情还是得等林晓先把电子拓扑成键理论给搞出来了再说。
当然,林晓作为这些工作的领导,尽管他主要负责的还是技术上面的东西,不过过年期间的安排,还是得由他下达的。
随后,他便拿出手机开始安排了起来。
首先是他们的副总设计师,这位副总师叫杨凯平,本身是魔都微电子集团光刻机的首席研发人员,在魔都微电子集团研发的600系列光刻机中贡献了巨大的力量。
魔都微电子的600系列光刻机,其采用ArF准分子激光光源,和DUV光刻机一样,不过因为技术上的差距,600系列光刻机只能用来生产90nm芯片的光刻机,90nm看起来很拉,远不如能生产7nm的DUV和4nm的EUV,但对于华国来说,已经属于一项十分巨大的突破了。
要知道,世界上能造光刻机的公司,如果只算最出名的,那就是阿斯麦尔、尼康和佳能,这是TOP3,如果要算TOP4的话,那就只有魔都微电子能排上号了。
甚至因为外国基本不给华国卖光刻机,只给卖DUV,以至于魔都微电子的光刻机在国内市占率高达80%,从某种程度上来说,算得上是“赢麻了”。
当然,也正是魔都微电子所作出的这种突破,才使得国外厂商生出忌惮,很大一部分程度上才使得阿斯麦尔一改往日态度,批准了DUV光刻机的对华出售,为华国带来了一定的缓解。
也正因为如此,这位杨凯平对于华国光刻机的贡献,也十分大。
在之前的工作中,林晓因为一直搞技术攻克,所以就有不少事情都是由杨凯平负责协调的。
电话很快接通,林晓便和杨凯平谈起了过年安排的事项,无非就是过年放不放假的事情,这件事情很好商量,反正全看他们的决定,于是三言两语下,便决定了假期放到过年之后。
之后,通知的事情就交给杨凯平了,而林晓则还有自己的事情要干,那就是询问一下各组成员技术攻关的问题。
首先,林晓便打电话给了机械结构组的组长,魔都光机所的陈远春院士。
机械结构组除了负责协调机械结构的安排之外,同样也承担了双工作
请收藏:https://m.bioitx.com
(温馨提示:请关闭畅读或阅读模式,否则内容无法正常显示)